1 699,00 kr
+ 86,99 kr Leverans

Chemical Vapor Deposition

  • Märke: Unbranded
Säljs av:

Chemical Vapor Deposition

  • Märke: Unbranded

1 699,00 kr

I lager
+ 86,99 kr Leverans

14-dagars returpolicy

Säljs av:

1 699,00 kr

I lager
+ 86,99 kr Leverans

14-dagars returpolicy

Betalningsmetoder:

Beskrivning

Chemical Vapor Deposition

1. Introduction. - 2. Thin Film Phenomena. - 3. Manufacturability. - 4. Chemical Equilibrium and Kinetics. - 5. Reactor Design for Thermal CVD. - 6. Fundamentals of Plasma Chemistry. - 7. Processing Plasmas and Reactors. - 8. CVD of Conductors. - 9. CVD of Dielectrics. - 10. CVD of Semiconductors. - 11. Emerging CVD Techniques. - AppendixVacuum Techniques for CVD. - A. 1 Fundamentals of Vaccum System Design. - A. 2 Typical Hardware Configurations. Language: English
  • Märke: Unbranded
  • Kategori: Utbildning
  • Artist: Srinivasan Sivaram
  • Format: Paperback
  • Publiceringsdatum: 2013/06/22
  • Sidantal: 292
  • Förläggare / Bolag: Springer
  • Språk: English
  • Fruugo-ID: 450901291-950612076
  • ISBN: 9781475747539

Leverans och returer

Skickas inom 4 dagar

  • STANDARD: 86,99 kr - Leverans mellan kl tors 29 januari 2026–tis 03 februari 2026

Leverans från Storbritannien.

Vi gör vårt bästa för att säkerställa att produkterna du beställer levereras kompletta och enligt dina specifikationer. Om du däremot skulle ta emot en ofullständig beställning, eller andra artiklar än de du beställt, eller om det finns någon annan anledning till att du inte är nöjd med din beställning, kan du returnera beställningen, eller valfria produkter som ingår i beställningen, och få fullständig ersättning för artiklarna. Visa fullständig returpolicy